Logo HUS Pelletron
  • Giới thiệu
  • Tin tức
  • Liên hệ
  • English

Các thông tin cơ bản

Thông tin chung Danh sách các chùm ion Kênh phân tích IBA Kênh cấy ion Lịch chạy máy Về chúng tôi Liên hệ

Nghiên cứu và ứng dụng

Phân tích RBS Phân tích PIXE Vật lý hạt nhân Cấy ion Công tác đào tạo

Kết quả đạt được

Giờ vận hành Công bố khoa học

Thư viện ảnh

Cơ sở vật chất Các hoạt động

Cấy ion

MEV implantation Application

Source: Dr. J. Borany – FZD

Applications

Semiconductor doping Damage study
Silicon substrates Sputtering
Surface finishing Gemstone modification

  • ← Previous
  • Next →

© 2022 HUS Pelletron